技术对太阳能业者而言既是命脉也是钱脉，但SNEC 2017 展会期间，隆基乐叶、保利协鑫分别无偿公开各自在单晶、多晶方面的专利技术，引发业界关注。

隆基乐叶在4月20日宣布公开可降低单晶衰减问题的“光致再生（LIR）”技术。LIR技术被应用于乐叶光伏所开发的Hi-MO2等单晶PERC组件产品当中，可有效降低P型单晶电池常见的LID（光衰）问题，提高整体发电功率表现。

单晶组件的功率衰退分成初始光衰与长期衰退两类，其中初始光衰会使组件的发电性能从一开始就大幅降低。乐叶光伏为解决此问题，与新南威尔斯大学、武汉帝尔激光科技公司合作研发LIR技术，有效降低初始光衰，进而提升光伏电站在系统端的整体发电效益约1%左右。隆基乐叶宣布分享LIR技术，希望能带动全球光伏产业进展。

另一方面，在单晶强势进攻下快速发展的黑硅技术，也由保利协鑫带头宣布无偿开放TS系列黑硅片的制绒（蚀刻）技术。4月21日，保利协鑫副总裁吕锦标宣布公开此技术，希望能嘉惠更多业者。

保利协鑫的TS系列黑硅硅片采用金刚线切多晶硅片与独家的“鑫绒面”多孔蚀刻技术，可降低成本同时提高转换效率。在电池片上，转换效率可提高0.3~0.5个百分点；在组件端上，降本幅度更可达每W人民币0.1元。保利协鑫表示，目前全球有约55GW的多晶规模，多晶硅片年产能超过122亿片，透过此技术，每片加工成本可降低0.5元人民币以上，十分可观。

业界对于单、多晶龙头厂商带头开放技术的行为多表示赞许，并认为这将帮助光伏发电进一步走入市电同价（平价上网）阶段。