美国科学家研制出了一种名为“连续渗透合成(SIS)”的技术，使用该技术，科学家可以用一块由嵌段共聚物大分子组成的薄膜作为模板，制造出具有各种形状和图案的材料，并能更好地控制合成材料的几何形状和化学成分，有望用于制造新一代太阳能电池、催化剂以及光子晶体。

这种新方法是原子层沉积(ALD)技术的扩展，ALD是阿贡国家实验室科学家广泛使用的一种材料合成技术，可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在基底表面。而SIS不需要像ALD那样层层铺设不同奈米材料组成的薄膜，只需使用嵌段共聚物作为基座即可。采用SIS技术制造出来的材料将有助于提高太阳能电池的效率，降低其成本。